GYLON® 3522—半导体超纯去离子水系统用洁净垫片

发布日期:2023年07月13日   作者:刘艳

GYLON® 3522—半导体超纯去离子水系统用洁净垫片

客户背景

设备制造商(去离子水加热器系统)

背景介绍

客户为半导体行业提供去离子水系统配套设备。这些设备需要优秀的抗化学能力并符合半导体行业的苛刻清洁度要求的密封件。

面临挑战

客户此前的密封件无法满足需要的高纯水平,或无法满足工况中的使用寿命。因此,客户迫切需要可靠的密封解决方案帮助提升高纯设备的使用寿命。

运营工况

介质:氮气,清洁空气,强酸;

温度:室温~100℃;

设备:去离子水加热管道;

压力:~7bar;

尺寸:GYLON® 3522垫片,最大2”,RF;

解决方案

通过Garlock工程师和客户密切沟通了解需求后,最终选择100%PTFE由特殊工艺制成的GYLON® 3522高纯改性聚四氟乙烯材料。安装时按照设备厂常规操作即可,简单易行,装配和测试及包装均在洁净室完成。GYLON® 3522材料满足3A等医药行业最苛刻的洁净要求。GYLON® 3522垫片作为设备需要的配件起到了关键的密封性能,验证后满足客户使用要求。

以上内容,归Garlock版权所有

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